供應CVD涂層設備

發(fā)布時間：2014-11-29 9:29:11

  CVD涂層設備技術參數

一、系統(tǒng)的主要組成及技術指標
系統(tǒng)主要由涂層沉積真空室、外加熱爐、氣路系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)等組成，實現加溫后，通入工作氣體，實現樣品的涂層生長等功能。
1.使用機械泵抽氣真空度可達到：1Pa；
2.*高溫度：1100℃；
3.真空室內徑：230mm;
4.恒溫區(qū)范圍：600mm×230mm
5.進氣管直徑：10mm
6.氫氣*大流量：30SLM; 氮氣*大流量：100SLM；甲烷*大流量：5SLM
7.浴槽罐的容量：5公斤；水浴加熱*高溫度：100℃；浴槽罐數量：2套
8.氣管加熱溫度：150℃